如何用“濺射”造句 濺射造句子

濺射時間越長或濺射功率越大或裝載量越少，都有利於薄膜結晶。

現在反應濺射法已被廣泛應用於切削刀具、成型工具、注射模具和諸如衝頭和沖模之類的通用器具，以增強其耐磨性和使用壽命。

過高的濺射功率使薄膜以非晶態的形式存在.

用磁控濺射低溫沉積鍍膜技術製做錳銅薄膜,能夠保持薄膜中錳、銅、鎳成份的相對穩定和錳銅合金正六面三元固溶體金相結構的特性.

高Z材料因其高熔點和低濺射率近年來受到越來越多的關注，但是難熔材料的脆性等問題仍然是這類材料應用的一大障礙。

採用氫離子濺射和X射線光電子能譜相結合的方法，檢測焦磷酸鹽鍍銅層和鐵基體介面區含氧量的變化，證明了氧化層的存在。

採用磁控射頻濺射法制備光波導用玻璃薄膜。

首先提出真空管道自體真空鍍膜新概念，採用特殊的陰極靶結構設計成功的解決了長管道內表面直流濺射鍍膜的難題。

在納晶敏化太陽能電池中，載鉑對電極的製備通常有電沉積、濺射和熱解等方法。

研究結果表明，磁控濺射製備的碳氟膜爲非晶結構。

所述的合金組合物優選形成爲用於薄膜應用領域的濺射靶。

爲改善射頻濺射法制備的防水透溼塗層的外觀和拒水性，對滌綸織物基底上的濺射氟碳高分子膜的泛黃問題進行了研究。

也可以單獨作爲磁控濺射或多弧離子鍍膜機使用。

在不同條件下用射頻濺射方法制備了氮化碳薄膜。

方法：用電子束蒸發和射頻磁控濺射兩種技術製備了天然HA薄膜。

真空室內的氣體等離子體可由熱燈絲或射頻放電產生，4另外還配置了4個金屬等離子體源、兩套磁控濺射靶和冷卻靶臺。

本文主要論述基板員偏壓與銅基體磁控濺射離子鍍鋁膜的關係。

研究了用銦錫合金靶直流磁控反應濺射製備ITO透明號電膜。

反應磁控濺射廣泛應用於製備光學薄膜.

射頻濺射沉積的薄膜均勻性和緻密性要優於直流濺射沉積的薄膜。

採用磁控濺射方法制備金屬銻薄膜，並把它作爲鋰離子二次電池負極進行研究。

在雙元靶嚴格解的基礎上，證明了澤優濺射與原子的半徑大小無關。

本文將主要敘述等離子濺射鍍膜的原理與方法,並且簡單介紹磁控管濺射儀和鋨等離子鍍膜儀等.

老實說,狂戰斧挺好用的,它可以帶來相當可觀的攻擊加成,恢復能力,並且它還有濺射效果.

它們拍發的大量導彈可以造成不可思議的濺射傷害.

春雨啊，嘩嘩地下，雨珠落在湖面上，像珍珠落在玉盤裏四面濺射；雨珠落在乾土上，地皮上陷下一個小坑，像草原姑娘臉上的笑靨。雨好牧草就好，牧草好牲口就好，牲口好牧民的生活就好。

三極反應濺射具有設備簡單，工藝簡便，鍍層緻密等特點。

濺射原子發射的角分佈概率和濺射花樣與高能濺射相類似。

應用TRIM程序模擬了離子在氚鈦靶上的濺射產額。

這是濺射離子簇質譜中繼“幻數”結構的另一個重要性質。